S半导体与电子

半导体制造用超高纯气体质量控制分析仪

半导体制造中必要的微量杂质检测与控制

制造半导体所用的特殊气体必须是高纯度的,因为这一过程非常精确。即使存在万亿分之一的微量杂质,也会导致整批晶圆的损失。在这些应用中,关键参数的可靠、可重复测量(检测下限小于100 ppt)至关重要。

满足您所有测量需求的一站式供应商

我们为您提供所有关键微量杂质的可靠测量,许多参数的检测水平低至十亿分之一。您可以从单一供应商提供的完整解决方案中获得方便和安心。为了更加方便,还可以使用单个分析仪系统进行多种微量杂质测量。

监测和控制特殊气体中微量杂质的完整解决方案

我们的氧气和水分分析仪和传感器,连同过程气相色谱仪,提供了一个完整的解决方案来监测和控制惰性气体、特殊气体和有毒气体的纯度,如:氮气(N2)、氦气(He)、氩气(Ar)、氧气(O2)、氢气(H2)、六氟化钨(WF6)、八氟环丁烷(C4F8),硅烷(SiH4)、锗烷(GEH4)、一氧化二氮(N2O)和三氟化氮(NF3)。

产品选择

超高纯气体中的微量氧

应用/服务 测量范围 测量气体/背景气 推荐产品
超高纯气体中氧污染的监测 0-100ppb N2, H2, Ar PI2-UHP100 & PI2-MS1000
监测大气钎焊和退火铜膜用超高纯氢清除剂气体的氧污染 0-100ppb O2 N2, H2, Ar PI2-UHP100 & PI2-MS1000

超高纯气体中的水分污染

应用/服务 测量范围 测量气体/背景气 推荐产品
超高纯气体中水分污染的监测 0-100 ppbV H2O
0-10 ppmV H2O
50 ppmV H2O
100 ppmV H2O
-120 至 -40°C 露点
全氟化合物 (FFCs), N2, H2, Ar 等 QMA401
Pura-TX-2WS800-RS

确定超高纯气体的纯度

应用/服务 测量范围 测量气体/背景气 推荐产品
确定超高纯气体的纯度 85-100ppt H2, N2, CH4, CO, NMHC, Ar/He, Ar, O2, MultiDetek2

Process Monitoring & Control

应用/服务 测量范围 测量气体/背景气 推荐产品
热处理硅片-监测硅片氧化炉中的微量氧 0-10 ppm O2 N2, H2 GPR-1600
GPR-1200
焊接回流炉惰性化与晶圆制造 <10 ppm O2 N2 Microx
化学气相沉积室中的清洁过程–用高纯氮吹扫后监测湿度水平 0-100 ppmV H2O
0-10 ppmV H2O
50 ppmV H2O
100 ppmV H2O
-120 至 -40 °C
N2 Pura-TX-2W
QMA401

环境氧监测

应用/服务 测量范围 测量气体/背景气 推荐产品
人员安全的环境监测.受限空间中氧气不足的人员防护 <19.5-20.0% Air, N2 Gasenz

应用选择

样气杂质

检测下限

注:噪音水平是基于使用氦保护气体的噪声峰值